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看着田旭东同学在足球场上纵横驰骋大杀四方，捧走了大力神杯成为了新一代球王，叶华功德圆满回到了台积电设置在氹仔岛的合作实验室搞研发。

前两年刚完成了浸入式光刻技术，现在叶华又要带领台积的供应商光刻机研发部门进入（极深紫外）时代。

为叶华旗下的高通、华技、台积电、东方电子等半导体生产商提供光刻机及相关服务，系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向采购机型，比如叶华旗下的高通、华技、海力士（ynix）、台积电（）、中芯国际（）等，同时也在各地成立了合作实验室。

的产品线分为系列、系列、系列和系列，其中系列光源为高压汞灯光源，现已停产；系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是系列以及系列，为r和r激光光源，系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。目前已经商用的最先进机型是ins 1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。

正在加紧研制基于极深紫外（）光源的新型光刻机，型号定为系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将关键尺寸缩小至10nm以下，并且可以显著提高集成电路质量。

众所周知，光刻是集成电路芯片制造的核心工艺。光刻机的成本占到了整个芯片生产的三分之一以上。而在光刻机的市场上，白婷在1977年就帮叶华注册的公司，而如今占到了全球光刻机80%以上的市场。

1960年代集成电路技术诞生后，最早的光刻工艺还不算什么尖端科技。叶华早期收购的仙童和这些第一代芯片公司都是自己设计光刻工具，只有，&和aser等少数公司开发一些独立的光刻设备。进入1970年代，光刻机成为不少米国公司竞争的焦点。先是aser推出接触式光刻设备，但是很快，接触式被接近式机台所淘汰，因为掩模和光刻胶的接触会很容易带来污染。接下来erkin lmer（&）推出投影式光刻系统，迅速占领市场。

1978年，仙童的光刻部门剥离出去，并入了公司，很快推出步进式光刻机，光刻机的分辨率达到了1微米。但是由于性能问题，暂时没能撼动erkin lmer投影式光刻机的市场领先度，直到进入80年代后，公司又推出更成熟的步进式光刻机-1010，投影
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